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| 品牌 | 華測儀器 | 應用領域 | 綜合 |
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設備原理：
1. 輻射加熱
紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
2. 紅外線燈
紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
3. 反射光
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。
設備特點
1. 高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻。
2. 溫度控制
通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。
3. 清潔加熱
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS
4. 不同環境下的加熱與冷卻
北京華測 高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環境，低溫（高純度惰性氣體靜態或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
設備結構：
序號 | 項目 | 數量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測 | 溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE（） | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測 | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍（） | |
6 | 穩壓電源 | 1 | 華測 | 可定制 |
7 | 制冷水機 | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶（） | CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優于-0.8Mpa |
結構:
溫控系統：設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發技術保證試驗溫度，確保±1℃的均勻性，多區獨立控溫補償邊緣熱損失；
• 根據設備上的溫度控制器輸入參數，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數據；
• 自適應熱電偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；
• 最大可設定32個程序、256個步驟的程序；
• 30A、60A、120A內置了SCR電路，所以范圍很廣。
• 腔體設計： 石英或碳化硅材質，耐高溫且低污染，晶圓通過自動傳輸系統進出，減少人為干擾；
• 進口干泵： 抽速>120L/min，極限真空度≤4pa，噪音小于 52db；
• 進口全量程真空規：刀口法蘭接口，真空測量范圍 5×10^-7 Pa 到 1atm。
技術規格:
產品型號：Huace-800G/1200G/1450G
最大產品尺寸：6 寸晶圓或者最大支持150 x 150mm產品
溫度范圍：室溫 ~ 1250 °C
最高升溫速度：<100 ℃ /s 可編程（此溫度為不含載盤的升溫速度）< 25 ℃ /s（SiC 載盤）
溫度均勻度：±5 °C ≤ 500 ℃ ±1 % > 500 ℃
溫度控制重復性：±1 °C
溫控方式：快速 PID 溫控
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