目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現溫度的測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測儀器通過多年研究開發了一種可實現，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐，是一種目前較為理想的真高空退火爐。

設備優勢：

1.高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統，增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻。

2.溫度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精que控制樣品的溫度（遠比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

3.不同環境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環境、低溫（高純度惰性氣體靜態或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

高真空退火爐的應用：

1.電子材料

半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成·激活離子注入后硅化物的形成

2.陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

陶瓷張力、撓曲試驗退火爐

3.鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000℃以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐

4.復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環試驗爐

5.其它

高溫拉伸壓縮試驗爐

分段分區控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐